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产品简介
●非接触式、非破坏性光学式膜厚检测●采用分光干涉法实现高度检测再现性●可进行高速的即时研磨检测●可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测●可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中●体积小、省空間、设备安装简易●可对应线上检测的外部信号触发需求●采用最适shi合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得专zhuan利)●可自动进行膜厚分布制图(选配项目)
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即时检测
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板(强酸环境中)于减薄制程中的厚度变化
| SF-3 | |
|---|---|
| 膜厚测量范围 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
| 膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
| 重复精度 | 0.001% 以下 |
| 测量时间 | 10msec 以下 |
| 测量光源 | 半导体光源 |
| 测量口径 | Φ27μm※2 |
| WD | 3 mm ~ 200 mm |
| 测量时间 | 10msec 以下 |
※1 随优米体育app种类不同,厚度测量范围不同
※2 最小Φ6μm
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