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产品简介
利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点,在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。
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●膜厚测量范围1nm~92μm(换算为SiO2)
●膜厚值高重复精度
●1点1秒以内的高速测量
●最小小点Φ3μm)中瞄准模式
●最zui适shi合图案晶片的膜厚映射
●能够取得图案对准用图像



CMP工艺
蚀刻工艺
成膜工艺等

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